Системы магнетронного распыления постоянного тока играют ключевую роль в современном материаловедении и инженерии поверхностей, особенно в секторе химического лабораторного оборудования. Эта технология использует магнетрон для генерации плазмы высокой плотности, помогая в осаждении тонких пленок и покрытий на различных подложках. Основной механизм включает в себя выброс атомов из материала-мишени, который затем