Sistemele de sputtering DC Magnetron sunt esențiale în știința modernă a materialelor și ingineria suprafeței, în special în sectorul echipamentelor de laborator chimic. Această tehnologie foloseşte un magnetron pentru a genera o plasmă de înaltă densitate, ajută la depunerea foliilor subțiri și a acoperirilor pe diferite substraturi. Mecanismul primar implică ejectarea atomilor dintr-un material țintă, care apoi se îndreaptă spre așteptare.