Les systèmes de pulvérisation cathodique magnétron à courant continu occupent une place centrale dans la science des matériaux et l’ingénierie des surfaces, en particulier au sein du secteur des équipements de laboratoire chimique. Cette technologie utilise un magnétron pour générer un plasma de haute densité, facilitant le dépôt de couches minces et de revêtements sur divers substrats. Le mécanisme principal consiste en l’éjection d’atomes d’un matériau cible, qui se condensent ensuite…