Laboratoriemagnetronsputteranlæg er afgørende instrumenter inden for materialevidenskab, især for dem, der specialiserer sig i aflejring af tynde film. Disse systemer benytter magnetron-sputteringteknikken, en fysisk dampaflejringsmetode (PVD), der muliggør dannelse af tynde film ved at udsende atomer fra et fast målmateriale. Denne proces opnås gennem anvendelsen af